prBAS ISO 23170:2025

Surface chemical analysis — Depth profiling — Non-destructive depth profiling of nanoscale heavy metal oxide thin films on Si substrates with medium energy ion scattering

Опште информације

Статус:Пројекат

Број страница:33

Метода усвајања:Korice

Језик:engleski

Издање:1.

Датум реализације:20.11.2024

Предвиђени датум наредне фазе:10.03.2025

Технички комитет:BAS/TC 49, Хемијски инжињеринг, лабораторијска опрема и козметика

ICS:

71.040.40, Хeмиjскa aнaлизa

Абстракт

This document specifies a method for the quantitative depth profiling of amorphous heavy metal oxide ultrathin films on Si substrates using medium energy ion scattering (MEIS).

Животни циклус

...

Изворни документ и степен усаглашености

ISO 23170:2022, идентичан

Радни материјал

Сaмo члaнoви тeхничкoг кoмитeтa имajу приступ рaднoм мaтeриjaлу. Укoликo стe члaн, мoлимo вac приjaвитe сe сa вaшим нaлoгoм и дoбићeтe приступ дoкумeнтимa. Пријавите се